フォトマスク欠陥検査装置

フォトマスク／レチクルにおけるパターンの欠陥（太り・細り・欠け・接触・断線・ピンホール等）をDie-Die（パターン同士の比較）及びDie-DB（パターンとCADデータとの比較）検査方式により高速に検査・検出し、欠陥情報をリペア装置等に伝達します。
また、反射検査機能を追加（オプション）することにより、クロム面の異物検出も可能です。

主な用途

当社フォトマスク欠陥検査装置の体系